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發視頻混合集成電路CMOS工藝中LowDose率對寄生雙極結構的影響分析概述
2018-05-15 |
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資料介紹
許多雙極型線性集成電路已顯示出增強的低劑量率敏感性（ELDRS），其中當暴露于電離輻射下的產品在低劑量率（LDR）時比暴露在高劑量率（HDR）時可能具有更差的總電離劑量（TID）性能。最近的測試細胞的研究表明，亞微米CMOS工藝也可能表現出ELDRS。一些CMOS產品，雖然不被認為是BiCMOS，確實包含有源雙極元件使用寄生雙極結構中存在的所有批量CMOS工藝。叁個混合信號CMOS產品，一個數模轉換器（DAC）和兩個模數轉換器（ADC），使用不同的亞微米CMOS工藝和使用有源寄生雙極結構，通過LDR TID測試來確定實際產品是否顯示ELDR。MIL-STD-83TM1019包含一種測試方法，通過使用HDR測試以及室溫煺火來限定對LDR環境的HDR TID測試失敗的產品。這種測試方法先前在超微米工藝節點上被證明。已經提出，這種測試方法對于亞微米工藝是無效的。測試方法驗證了亞微米CMOS產品使用LDR測試數據從一個產品在這項研究中。
增強的低劑量率敏感性（ELDRS）已被廣泛地研究并證明存在于許多雙極線性集成電路［1 ］ -（10）中。在這些產品上，由于總電離劑量（TID）輻射引起的電參數漂移在相對低的劑量率（LDR）下更為明顯。這是對LDR環境的關注，例如空間。由于集成電路的輻射鑒定的發展，它起源于更高劑量率的基于武器的應用，并且由于其實用性。在合理的時間內進行測試，TID測試
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